Enlitech 參與 ASEAN Failure Analysis Workshop (EDFAS 2026)｜日期：2026 年 7 月 17 日｜地點：新加坡國立大學（National University of Singapore, NUS）

．技術分享

基於光譜成像的光學損耗映射技術：實現矽光子積體電路高效失效分析與晶圓級檢測

．分享者：Dr. Joseph Liao

隨著矽光子（Silicon Photonics）技術快速發展，並逐步應用於高速光互連、資料中心與共封裝光學（Co-Packaged Optics, CPO）架構中，如何快速定位光學缺陷並提升製造良率，已成為半導體產業面臨的重要挑戰。

在 EDFA Workshop 2026 中，Enlitech 將分享創新的光譜成像技術（Spectral Imaging），透過直接觀察矽光子積體電路（Silicon Photonic Integrated Circuits, PICs）內部光傳播行為，實現光學損耗分布視覺化（Optical Loss Mapping），並提供高效率的缺陷定位與晶圓級檢測方案。

誠摯邀請您參與 EDFA Workshop 2026，與 Dr. Joseph Liao 一同探索光譜成像技術如何提升先進光子積體電路的失效分析能力，加速下一代矽光子製造與可靠性驗證技術發展。