經濟日報報導光焱法說會:Night Jar™ 鎖定 CPO 量產前晶圓級光學檢測缺口

banner-Enlitech Industry Coverage
banner-Enlitech Industry Coverage

經濟日報於 2025/11/20 報導光焱科技(Enlitech)法人說明會重點指出,在 AI 帶動下,矽光子(SiPh)與共同封裝光學(CPO)正加速成形,相關專案已在晶圓代工大廠與 IC 設計客戶端驗證,並看好 CPO 檢測需求自 2026 年起逐步升溫。報導提到,光焱已推出矽光子晶片檢測平台 Night Jar™,目標補足 CPO 量產前「晶圓級光學檢測」的關鍵缺口。

「相關專案已在晶圓代工大廠與 IC 設計客戶端驗證。」——經濟日報
「鎖定 CPO 量產前的晶圓級光學檢測缺口。」——經濟日報

隨著機櫃互連由銅線走向矽光子 CPO 架構,若在高成本 EIC 封裝後才發現 PIC 晶片光損異常,往往將拖累良率與成本。Night Jar™ 以晶圓級 On-Wafer 光學檢測為核心,協助團隊更早期定位光損來源、降低後段封裝風險,提升後續 CPO 封裝良率與導入效率。 

Night Jar™ 矽光子晶圓測試系統重點特色

  • 影像式光學量測:於晶圓階段標示 PIC 晶片光損位置、漏光量與對應結構,支援快速故障分析(FA)與除錯(Debug),加速問題定位。

  • 晶圓級全檢與映射:支援掃描整片晶圓,並可進行晶圓級光損耗量測與映射(Wafer-Level Optical Loss Mapping),利於掌握良率與製程穩定度。

  • WAT / CP / FT 測試覆蓋:可在 WAT、CP、FT 等不同測試階段導入 On-Wafer 光學檢測,於先進封裝或 CPO 組裝前先行把關。

  • 直接外掛、相容多品牌探針台:可整合並升級既有探針台(工程用或量產自動探針台),在不影響原電性測試流程下加裝光學檢測模組,降低導入門檻與風險。

  • 4–12 吋晶圓支援:可覆蓋研發到量產尺寸需求,協助從裝置開發、製程驗證到量產導入的測試串接。

「NightJar 採『直接外掛』架構,可相容任何品牌探針台。」——經濟日報

Featured Products
Facebook
Twitter
LinkedIn
發佈留言

發佈留言必須填寫的電子郵件地址不會公開。 必填欄位標示為 *